AR-Meta 超表面光场检测系统 采用 消除像差 的光学设计，以商用设备实现 μm 量级超表面器件的原位、宽谱段的透 / 反射光场测量，并提供焦距、成像分辨率、点扩散函数、调制传递函数、斯特列尔比、数值孔径、偏折效率等关键测量指标分析。结合丰富的偏振器件，为您带来一款“专业化”的超表面与超透镜光场检测平台。

超表面器件 超表面器件在空间上具有复杂的光场调控能力，需要在微米尺度下扫描光场。

超透镜 受限于设计规模和微纳加工能力，超透镜难以实现较大口径。面向折射型透镜的传统检测工具已无法满足该类器件的光学性质表征需求，针对超透镜特点设计的检测平台应运而生。

微透镜 口径在数百微米以下的微透镜及阵列，在集成光学中已开始发挥重要作用，受限于透镜口径，当前缺乏商用化的微透镜光学指标检测平台。

AR-Meta 超表面光场检测 在以上领域的应用得益于如下几个特点： 1 μm 量级测量区域 AR-Meta 基于 Olympus 商用显微平台，配合消除像差的准直及成像光路，实现了 μm 量级超表面器件光场检测； 2 超过 7 项关键指标 围绕超表面器件及超透镜领域的研究热点，AR-Meta 形成了焦距、成像分辨率 (含角向分辨率)、点扩散函数 (PSF)、调制传递函数 (MTF)、斯特列尔比 (Strehl Ratio)、数值孔径 (N.A.)、偏折效率 (Deflection Efficiency) 等超过 7 项衡量器件光学性质的关键指标； 3 *宽 380~1700nm 谱段 AR-Meta 内部支持两个谱段：可见和近红外 (含 850nm，1310nm，1550nm)，并通过高稳定切换部件实现了两者的切换，与之匹配的是可以通过外部接口，引入多种波长的激光光源； 4 反射 + 透射 AR-Meta 具有独立的反射与透射两套光路，能够轻松实现反射情况下 0~20mm 纵深，透射情况下 0~2mm 纵深的光场扫描； 5 工程化设计 AR-Meta 在设计中充分考虑了光路切换的稳定性，实现了控制的自动化，保障良好用户体验； 6 除此之外，内秉的线偏振与圆偏振器件，多种滤色片的选择等，使 AR-Meta 的应用覆盖了超表面检测所需要的多数场合。